研發流片服務
馳拓科技擁有國內唯一、國際上居于先進水平的28nm 12英寸后段工藝線，具備從技術研發到產品小規模量產的全套能力，可為客戶提供全方位的流片及工藝開發服務，包括：
1. 無圖案的介質薄膜沉積：如TEOS，SiN，LTO等。
2. 無圖案的金屬薄膜沉積：如Ta/TaN，Ti/TiN，W/WN，Al，Cu，Co，CoFe，Ru等。
3. 光刻材料涂布與光刻材料驗證：如光刻膠、BARC、SOC等。
4. 表面平坦化：可支持Cu/ILD CMP, 工藝能力可以cover到28nm。支持OX/Cu/SiN/Ta/TaN/W等單層材料研磨。
5. 無圖案的結構片加工：根據合作伙伴需求，提供多層膜的結構片加工及在線工藝檢測服務。
6. 圖案化的結構片加工：根據客戶需求，提供包含28納米技術節點以上的圖案設計、光罩設計、圖案化加工及在線工藝檢測等多種服務和支持。
7. MRAM器件客戶定制化研發：根據客戶需求，提供定制化的MRAM器件研發。
